发明名称 |
Halbleiterspeicherzelle sowie zugehöriges Herstellungsverfahren |
摘要 |
Die Erfindung betrifft eine Halbleiterspeicherzelle sowie ein zugehöriges Herstellungsverfharen, wobei ein Speicherkondensator mit einem Auswahltransistor (AT) verbunden ist. Der Speicherkondensator ist hierbei als Kontaktloch-Kondensator (KK) in zumindest einem Kontaktloch für ein Source- oder Draingebiet (S, D) ausgebildet. Eine derartige Halbleiterspeicherzelle kann besonders kostengünstig hergestellt werden und ermöglicht eine hohe Integrationsdichte.
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申请公布号 |
DE102004004584(A1) |
申请公布日期 |
2005.08.25 |
申请号 |
DE200410004584 |
申请日期 |
2004.01.29 |
申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AG |
发明人 |
OLBRICH, ALEXANDER;OSTERMAYR, MARTIN;NIRSCHL, THOMAS |
分类号 |
H01L21/02;H01L21/8242;H01L27/108;(IPC1-7):H01L27/108;H01L21/824 |
主分类号 |
H01L21/02 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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