发明名称 Halbleiterspeicherzelle sowie zugehöriges Herstellungsverfahren
摘要 Die Erfindung betrifft eine Halbleiterspeicherzelle sowie ein zugehöriges Herstellungsverfharen, wobei ein Speicherkondensator mit einem Auswahltransistor (AT) verbunden ist. Der Speicherkondensator ist hierbei als Kontaktloch-Kondensator (KK) in zumindest einem Kontaktloch für ein Source- oder Draingebiet (S, D) ausgebildet. Eine derartige Halbleiterspeicherzelle kann besonders kostengünstig hergestellt werden und ermöglicht eine hohe Integrationsdichte.
申请公布号 DE102004004584(A1) 申请公布日期 2005.08.25
申请号 DE200410004584 申请日期 2004.01.29
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 OLBRICH, ALEXANDER;OSTERMAYR, MARTIN;NIRSCHL, THOMAS
分类号 H01L21/02;H01L21/8242;H01L27/108;(IPC1-7):H01L27/108;H01L21/824 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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