| 发明名称 | 抛光组合物及使用它的抛光方法 | ||
| 摘要 | 一种抛光组合物，它含有：(a)研磨剂；(b)与铜离子形成螯合物的化合物；(c)向铜层提供形成保护层作用的化合物；(d)过氧化氢；(e)水；其中所述的组分(a)研磨剂的原生颗粒粒度为50-120纳米。 | ||
| 申请公布号 | CN1216112C | 申请公布日期 | 2005.08.24 |
| 申请号 | CN01122298.0 | 申请日期 | 2001.08.22 |
| 申请人 | 不二见株式会社 | 发明人 | 酒井谦儿;浅野宏;北村忠浩;伊奈克芳 |
| 分类号 | C09G1/02 | 主分类号 | C09G1/02 |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 张宜红 |
| 主权项 | 1.一种抛光组合物，它含有：(a)研磨剂，该研磨剂是二氧化硅；(b)与铜离子形成鳌合物的化合物，该化合物含有位于α位置的至少一个羧基和氮原子；(c)向铜层提供形成保护层作用的化合物，该化合物是至少一种选自苯并三唑及其衍生物的化合物；(d)过氧化氢(e)水；其中所述的组分(a)的原生颗粒粒度为50-120nm。 | ||
| 地址 | 日本爱知县 | ||