发明名称 | GaP外延片及GaP发光元件 | ||
摘要 | 提供可获得更高亮度的GaP外延片及使用其外延片的GaP发光元件。本发明的GaP外延片3是在n型GaP单结晶基板10的{111}B面形成n型GaP缓冲层11的GaP外延片,将{01-1}裂面选择蚀刻后于n型GaP缓冲层11处观测到的梳齿状结晶缺陷的条数,为每100μm的成长界面为30条以下,其中该结晶缺陷为处于n型GaP缓冲层11成长界面且与平行面交叉并且延伸的梳齿状结晶缺陷。使用该GaP外延片3制作出的GaP发光元件1,具备高亮度。 | ||
申请公布号 | CN1658406A | 申请公布日期 | 2005.08.24 |
申请号 | CN200510007525.9 | 申请日期 | 2005.02.07 |
申请人 | 信越半导体株式会社 | 发明人 | 中村秋夫;茂木勇;吉田裕二 |
分类号 | H01L33/00 | 主分类号 | H01L33/00 |
代理机构 | 南京经纬专利商标代理有限公司 | 代理人 | 楼高潮 |
主权项 | 1、在n型GaP单结晶基板之{111}B面上形成的n型GaP层的GaP外延片,其特征在于,在将{01-1}裂面选择蚀刻后,于n型GaP层处可观察到的梳齿状结晶缺陷的条数为每100μm的成长界面为30条以下,其中该结晶缺陷为处于n型GaP层成长界面且与平行面交叉并且延伸的梳齿状结晶缺陷。 | ||
地址 | 日本国东京都 |