发明名称 | 具有晶格不相称区的应变沟道晶体管结构 | ||
摘要 | 本实用新型提供一种具有晶格不相称区的应变沟道晶体管结构。此晶体管结构包括一具有应变沟道区的基底,该基底包含第一自然晶格常数的第一半导体材料,于一表面,一栅极介电层覆盖此应变沟道区,一栅极电极覆盖此栅极介电层,且一源极区与漏极区位于此应变沟道区的相对邻近处,此源极区与/或漏极区包含一晶格不相称区,该晶格不相称区包含第二自然晶格常数的第二半导体材料,此第二自然晶格常数与第一自然晶格常数相异。 | ||
申请公布号 | CN2720640Y | 申请公布日期 | 2005.08.24 |
申请号 | CN200420049930.8 | 申请日期 | 2004.04.26 |
申请人 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 发明人 | 杨育佳;林俊杰;李文钦;胡正明 |
分类号 | H01L29/78 | 主分类号 | H01L29/78 |
代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 王一斌 |
主权项 | 1.一种具有晶格不相称区的应变沟道晶体管结构,其特征在于所述应变沟道晶体管结构包括:一应变沟道区,包括具有第一自然晶格常数的第一半导体材料;一覆盖该变形沟道区的栅极介电质层;一覆盖该栅极介电质层的栅极电极;以及一源极区与漏极区位于该变形沟道区相对相邻处,该源极与/或漏极包含一晶格不相称区,该晶格不相称区包括具有第二自然晶格常数的第二半导体材料,该第二自然晶格常数与该第一自然晶格常数相异。 | ||
地址 | 台湾省新竹科学工业园区 |