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发明名称
Fabrication method of poly silicon thin film using a mixture of AC and DC field aided lateral crystallization process
摘要
申请公布号
KR100508783(B1)
申请公布日期
2005.08.22
申请号
KR20030090633
申请日期
2003.12.12
申请人
发明人
分类号
H01L21/324;(IPC1-7):H01L21/324
主分类号
H01L21/324
代理机构
代理人
主权项
地址
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