| 主权项 |
1.一种使用于化学放大正型光阻剂之聚合物混合物,其包含:聚合物(A)系由二个或更多个不同的单体聚合而成,且具有酸不稳定的二-烷基丙二酸酯基团键结至该聚合物主链;和聚合物(B)系由(甲基)丙烯酸酯衍生物单体与一个或更多个其他单体聚合而成,其中聚合物(A)为化学式(CF1)及聚合物(B)为化学式(CF2);其中:R1和R5分别为三级丁基或四氢喃基,R2,R3和R4分别为氢或甲基,m,n,x和y为整数,m/(m+n)的比率为由0.01至0.5,和y/(x+y)的比率为由0.01至0.5;聚合物(A)和(B)系以范围由0.1:0.9至0.5:0.5之重量比率混合;和每个聚合物(A)和(B)的重量平均分子量范围为由5,000至100,000。2.一种正型光阻剂组成物,其包含:用为正型光阻剂之聚合物混合物,其包含聚合物(A)系由二个或更多个不同单体聚合而成且具有酸不稳定的二-烷基丙二酸酯基团键结至该聚合物主链,和聚合物(B)系由(甲基)丙烯酸酯衍生物单体与一个或更多个其他单体聚合而成,其中聚合物(A)与(B)以范围由0.1:0.9至0.5:0.5之重量比率混合;和光敏性酸生成剂,其中聚合物(A)为化学式(CF1)及聚合物(B)为化学式(CF2);其中:R1和R5分别为三级丁基或四氢喃基,R2,R3和R4分别为氢或甲基,m,n,x和y为整数,m/(m+n)的比率为由0.01至0.5,和y/(x+y)的比率为由0.01至0.5;每个聚合物(A)和(B)具有重量平均分子量范围由5,000至100,000;和光敏性酸生成剂之量为基于聚合物混合物重量之由1至15重量百分率。3.根据申请专利范围第2项之正型光阻剂组成物,其中该正型光阻剂组成物进一步包含重量为基于聚合物混合物重量之由0.01至2.0重量百分率之有机硷。4.根据申请专利范围第3项之正型光阻剂组成物,其中该有机硷为三乙胺,三异丁基胺,二乙醇胺或三乙醇胺。5.根据申请专利范围第2项之正型光阻剂组成物,其中该光敏性酸生成剂为三芳基盐类,二芳基碘盐类,或磺酸盐类。6.根据申请专利范围第2项之正型光阻剂组成物,其中R1为三级丁基;R2,R3和R4为氢;及R5为三级丁基。7.根据申请专利范围第2项之正型光阻剂组成物,其中R1为三级丁基;R2,R3和R4为氢;及R5为四氢喃基。8.根据申请专利范围第2项之正型光阻剂组成物,其中R1为三级丁基;R2和R3为氢;R4为甲基;及R5为三级丁基。9.根据申请专利范围第2项之正型光阻剂组成物,其中Rl为三级丁基;R2和R3为氢;R4为甲基;及R5为四氢喃基。10.一种使用于化学放大正型光阻剂之聚合物混合物,其包含:聚合物(A)系由二个或更多个不同的单体聚合而成,且具有酸不稳定的二-烷基丙二酸酯键结至该聚合物主链;和聚合物(B)系由烷氧基苯乙烯单体与一个或更多个其他单体聚合而成,其中聚合物(A)为化学式(CF1)及聚合物(B)为化学式(CF3);其中:R1为三级丁基或四氢喃基;R2和R3分别为氢或甲基;R7为烷氧基-1-乙基,四氢喃基,三级丁基或三级丁氧基羰基;m,n,x和y为整数;m/(m+n)的比率为由0.01至0.5;和y/(x+y)的比率为由0.01至0.5;聚合物(A)和(B)系以范围由0.1:0.9至0.5:0.5之重量比率混合;和每个聚合物(A)和(B)的重量平均分子量范围为由5,000至100,000。11.一种正型光阻剂组成物,其包含:用为正型光阻剂之聚合物混合物,其包含聚合物(A)系由二个或更多个不同单体聚合而成且具有酸不稳定的二-烷基丙二酸酯基团键结至该聚合物主链,和聚合物(B)系由烷氧基苯乙烯单体与一个或更多个其他单体聚合而成,其中聚合物(A)与(B)以范围由0.1:0.9至0.5:0.5之重量比率混合;和光敏性酸生成剂,其中聚合物(A)为化学式(CF1)及聚合物(B)为化学式(CF3);其中:R1为三级丁基或四氢喃基;R2和R3分别为氢或甲基;R7为烷氧基-1-乙基,四氢喃基,三级丁基或三级丁氧基羰基;m,n,x和y为整数;m/(m+n)的比率为由0.01至0.5;和y/(x+y)的比率为由0.01至0.5;每个聚合物(A)和(B)具有重量平均分子量范围由5,000至100,000;和光敏性酸生成剂之量为基于聚合物混合物重量之由1至15重量百分率。12.根据申请专利范围第11项之正型光阻剂组成物,其中该正型光阻剂组成物进一步包含重量为基于聚合物混合物重量之由0.01至2.0重量百分率之有机硷。13.根据申请专利范围第12项之正型光阻剂组成物,其中该有机硷为三乙胺,三异丁基胺,二乙醇胺或三乙醇胺。14.根据申请专利范围第11项之正型光阻剂组成物,其中该光敏性酸生成剂系选自包含三芳基盐类,二芳基碘盐类,和磺酸盐类。15.根据申请专利范围第11项之正型光阻剂组成物、其中R1为三级丁基,R2和R3为氢,及R7为烷氧基-1-乙基。16.根据申请专利范围第11项之正型光阻剂组成物,其中R1为三级丁基,R2和R3为氢,及R7为四氢喃基。17.根据申请专利范围第11项之正型光阻剂组成物,其中R1为三级丁基,R2和R3为氢,及R7为三级丁基。18.根据申请专利范围第11项之正型光阻剂组成物,其中R1为三级丁基,R2和R3为氢,及R7为三级丁氧基羰基。图式简单说明:图1为一曲线图显示由使用于本发明光阻剂之聚合物混合物组成之共聚物热重量分析的结果;和图2为一曲线图显示光阻剂膜的对比性曲线。 |
