发明名称 用在光微影之于玻璃上旋涂的抗反射涂层之吸收化合物
摘要 本发明系关于使用一种经向氧键联与或发色团相连之包含矽乙氧基、矽二乙氧基、或矽三乙氧基类之吸收似醚之化合物,当作有机吸光化合物。吸收之似醚化合物系加在玻璃上旋涂之材料上,得到深紫外线光微影用之抗反射涂层材料。一种制备吸光醚化合物之方法,其系在醇存在下,使醇取代之发色团与乙醯氧基矽化合物反应为主。本发明亦提供一种包含吸收似醚化合物之在玻璃上吸收旋涂材料之制造方法。
申请公布号 TWI238174 申请公布日期 2005.08.21
申请号 TW090117454 申请日期 2001.07.17
申请人 哈尼威尔国际公司 发明人 泰瑞沙 巴德威;玛丽 理雪伊;琼斯 德雷吉;吴惠琼;理查 史派尔
分类号 C08L83/04 主分类号 C08L83/04
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 1.一种制备吸光似醚化合物之方法,该方法包括:结合醇取代之稠合苯环化合物(该稠合之环化合物包括二或三个环)、乙醯氧基矽化合物、醇、及溶剂,制成反应混合物,其中乙醯氧基矽化合物之一般式为RmSi(OCOCH3)4-m,其中R系为氢或一烷基,且m=0-2,且其中之稠合环化合物、乙醯氧基矽化合物及醇系以化学计量比1:1:3-m结合;搅拌反应混合物至足以形成吸光醚化合物之时间;及移除酸副产物。2.如申请专利范围第1项之方法,其中乙醯氧基矽化合物之一般式为RmSi(OCOCH3)4-m,其中之R系选自由氢、甲基、乙基、及丙基所组成之群,且m=0-2,且其中之稠合环化合物、乙醯氧基矽化合物及醇系以化学计量比1:1:3-m结合。3.如申请专利范围第2项之方法,其中之乙醯氧基矽化合物为甲基三乙醯氧基矽烷。4.如申请专利范围第2项之方法,其中之稠合环化合物为9-甲醇。5.如申请专利范围第2项之方法,其中之醇为乙醇。6.如申请专利范围第3项之方法,其中之高吸光醚化合物为9-甲氧基-甲基二乙氧基矽烷。7.一种吸光玻璃上旋涂之组合物,该组合物包括矽烷聚合物及包括二或三个稠合苯环及与选自由矽乙氧基、矽二乙氧基、及矽三乙氧基所组成之群之含矽类键联之氧之吸光似醚化合物。8.如申请专利范围第7项之组合物,其中之吸光醚化合物之一般式为C14H9(CH2)nOSiRm(OC2H5)3-m或C10H8(CH2)nOSiRm(OC2H5)3-m,其中n=1-3,m=0-2,且R系选自由氢、甲基、乙基及丙基所组成之群。9.如申请专利范围第8项之组合物,其中之吸光醚类化合物为9-甲氧基-甲基二乙氧基矽烷。10.如申请专利范围第7项之组合物,其中之矽氧烷聚合物系选自由甲基矽氧烷、甲基矽倍半氧烷、苯基矽氧烷、苯基矽倍半氧烷、甲基苯基矽氧烷、甲基苯基矽倍半氧烷、及矽酸酯聚合物所组成之群之聚合物。11.如申请专利范围第7项之组合物,其中之矽氧烷聚合物为选自由氢矽氧烷、氢矽倍半矽氧烷、有机氢化物基矽氧烷、及有机氢化物基矽倍半氧烷聚合物,及氢矽倍半氧烷及烷氧基氢化物基矽氧烷或羟基氢化物基矽氧烷所组成之群之共聚物。12.如申请专利范围第11项之组合物,其中之矽氧烷聚合物为具备选自由下列所组成之群之一般式之聚合物:(H0-1.0SiO1.5-2.0)x,其中之x大于8,及(H0-1.0SiO1.5-2.0)n(R'0-1.0SiO1.5-2.0)m,其中m大于0,且n及m之总合8至5000,且R'为C1-C20烷基或C6-C12芳基。13.一种涂料溶液,其包括如申请专利范围第7项之组合物及溶剂或溶剂混合物。14.如申请专利范围第13项之涂料溶液,其中溶波中之吸光玻璃上旋涂组合物在0.5%至20%(重量)之间。15.一种制备吸光玻璃上旋涂组合物之方法,包括:结合一种或多种选自由烷氧基矽烷及卤矽烷所组成之群之矽烷反应物,一种或多种可添加之有机吸收化合物(且其中至少一种有机吸收化合物为包括二或三个稠合苯环及与选自由矽乙氧基、矽二乙氧基、矽三乙氧基所组成之群之含矽类键联之氧之吸光醚化合物)、酸/水混合物及一种或多种溶剂,形成反应混合物,及使反应混合物维持在30至80℃之温度下,至足以形成吸光玻璃上旋涂组合物之时间。16.如申请专利范围第15项之方法,其中之一种或多种矽烷反应物系选自由三乙氧基矽烷、四乙氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、二甲基二乙氧基矽烷、二甲基二甲氧基矽烷、四甲氧基矽烷、甲基三甲氧基矽烷、三甲氧基矽烷、二甲基二甲氧基矽烷、苯基三乙氧基矽烷、苯基三甲氧基矽烷、二苯基二乙氧基矽烷、及二苯基二甲氧基矽烷。卤矽烷尤其是氯矽烷,如三氯矽烷、甲基三氯矽烷、乙基三氯矽烷、苯基三氯矽烷、四氯矽烷;二氯矽烷、甲基二氯矽烷、二甲基二氯矽烷、氯三乙氧基矽烷、氯三甲氧基矽烷、氯甲基三乙氧基矽烷、氯乙基三乙氧基矽烷、氯苯基三乙氧基矽烷、氯甲基三甲氧基矽烷、氯乙基三甲氧基矽烷、及氯苯基三甲氧基矽烷所组成之群。17.如申请专利范围第16项之方法,其中之一种或多种矽烷反应物为四乙氧基矽烷及甲基三乙氧基矽烷。18.如申请专利范围第15项之方法,其中之酸/水混合物为硝酸/水混合物。
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