制作光纤光栅之曝光方法

摘要

一种制作光纤光栅之曝光方法，其系于第一次曝光时在两束(±1级)绕射光束后，分别各自利用一组特殊镜面组(或棱镜组)，将光强度依特别设计之光路径加以重新分布，使强光部分移至两端，同时两端弱光部分移至，并沿原路径曝照于已经制作但尚未修正之光纤光栅上，此时回曝两绕射光只会有光强度影响光纤光栅的有效折射率，并不会再次产生困扰的重复干涉现象，使其仅需利用廉价均匀型相位光罩并仅一次曝光即可达成制作出具有折射率加权变化之光纤光栅(apodised fiber grating)。

主权项

1.一种制作光纤光栅之曝光方法,包括:将均匀性相位光罩贴近一感光性光纤,并以一高斯分布紫外光束曝照,再经过均匀型相位光罩后形成+1级绕射光及-1级绕射光,在这两绕射光束后,分别利用一组特殊镜面组,将光强度依特别之光路径加以重新分布,并沿原路径回曝照于已经制作但尚未修正之光纤光栅上,如此即可在一次制程后就获得平均有效折射率为极近相同値的光纤光栅。2.如申请专利范围第1项所述之制作光纤光栅之曝光方法,其中该特殊镜面组可为棱镜组。3.如申请专利范围第1项所述之制作光纤光栅之曝光方法,其中该特殊镜面组系可包含四个能有效反射UV光的面所组成。4.如申请专利范围第1项所述之制作光纤光栅之曝光方法,其中该特殊镜面组之四反射面互为直角衔接,并构成像英文字母W状。图式简单说明:图一为习用二次曝光方法中之第一次曝光架构图;图二为习用二次曝光方法中之第二次曝光架构图;图三为本发明制作光纤光栅之曝光方法之镜面架构及光路径示意图;以及图四为本发明制作光纤光栅之曝光方法之整体曝光架构图。