发明名称 羟基内酯类之制造方法
摘要 本发明系有关羟基内酯类之制法,将羟基具有非共轭双键之不饱和羧酸或其酯(i)在含有选自钨、钼、钒及锰等金属元素之金属化合物存在下与过氧化氢进行反应,或是(ii)与含有上述金属元素之过氧化物进行反应,构成上述双键一方之碳原子与羟基结合,生成在另一方之碳原子位置进行环化之对应羟基内酯。上述金属化合物可使用选自氧化物、含氧酸及其盐类之化合物。上述不饱和羧酸可列举β,γ-不饱和羧酸、γ,δ-不饱和羧酸、δ,ε-不饱和羧酸。根据该方法可以高收率且便宜地制造羟基内酯类。
申请公布号 TWI238162 申请公布日期 2005.08.21
申请号 TW090117627 申请日期 2001.07.19
申请人 泰舍尔化学工业股份有限公司 发明人 石井康敬;中野达也;井上庆三
分类号 C07D307/32;C07D307/93;C07D309/30 主分类号 C07D307/32
代理机构 代理人 洪武雄 台北市中正区博爱路80号6楼;陈昭诚 台北市中正区博爱路80号6楼
主权项 1.一种羟基内酯类之制法,其特征为:将下述式(1a) 、(1b)或(1c)所示,羧基具有非共轭双键之不饱和羧 酸或其酯(i)在含有选自钨、钼、钒及锰等金属元 素之金属化合物存在下与过氧化氢进行反应,或是 (ii)与含有上述金属元素之过氧化物进行反应,而 分别生成构成上述双键一方之碳原子与羟基结合, 且另一方之碳原子位置进行环化之对应羟基内酯, 即自式(1a)所示之,-不饱和羧酸或其酯生成式( 2a)所示,自式(1b)所示之,-不饱和羧酸或其酯生 成式(2b-1)或(2b-2)所示,自式(1c)所示之,-不饱和 羧酸或其酯生成式(2c)所示之羟基内酯, (式中,R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11 、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19、R20、R 21为相同或不同,表示氢原子或有机基,在式(1a)之R1 至R5、式(1b)之R7至R12或式(1c)之R13至R21、(2a)之R1至R 5、式(2b)之R7至R12或式(2c)之R13至R21中,至少2个基亦 可相互结合,与邻接之碳原子或碳键共同形成环) 。 2.如申请专利范围第1项羟基内酯类之制法,其中, 该金属化合物为至少一种选自氧化物、含氧酸及 其盐类者。
地址 日本