Transparente und leitfähige Oxidschicht, Herstellung sowie Verwendung derselben in einer Dünnschichtsolarzelle

摘要

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer leitfähigen und transparenten Zinkoxidschicht auf einem Substrat durch reaktives Sputtern, wobei der Prozess einen Hysteresebereich aufweist. Das Verfahren ist gekennzeichnet durch die Schritte: DOLLAR A - Es wird ein metallisches Zn-Target mit einer Dotierung verwendet, wobei der Dotiergehalt des Targets weniger als 2,3 at-% beträgt, DOLLAR A - der Heizer für das Substrat wird so eingestellt, dass eine Substrattemperatur oberhalb von 200 DEG C eingestellt wird, DOLLAR A - es wird eine dynamische Depositionsrate von mehr als 50 nm*m/min eingestellt, welche einer statischen Depositionsrate von mehr als 190 nm/min entspricht, und DOLLAR A - es wird ein stabilisierter Arbeitspunkt innerhalb des instabilen Prozessbereichs gewählt, der zwischen dem Umkehrpunkt zwischen stabilem, metallischem und instabilem Prozess und dem Wendepunkt der stabilisierten Prozesskurve liegt.