发明名称 |
用于场发射装置的阴极喷涂屏蔽 |
摘要 |
本实用新型公开了一种用于场发射装置的阴极喷涂屏蔽,对于一般场发射显示或光源的构造提供一阴极喷涂屏蔽,以方便施行阴极喷涂制程,该阴极喷涂屏蔽包括有片状基材,具有外侧面及内侧面,且该外侧面于喷涂时面对喷涂源,且该内侧面于喷涂时面对阴极基板,其是以外窄内宽的孔槽技术施行于极喷涂屏蔽,于使用喷涂方法涂布阴极纳米碳管层时得到精确且质量优良的效果,据此:一、可提供一精度良好,能防止喷涂毛边的较佳构造;二、易于省去后续加工;三、不影响现有制程设备而实时可用。 |
申请公布号 |
CN2718770Y |
申请公布日期 |
2005.08.17 |
申请号 |
CN200420073209.2 |
申请日期 |
2004.06.24 |
申请人 |
东元奈米应材股份有限公司 |
发明人 |
郭志彻;萧俊彦 |
分类号 |
H01J9/02;H01J1/304;H01J29/04 |
主分类号 |
H01J9/02 |
代理机构 |
隆天国际知识产权代理有限公司 |
代理人 |
王玉双;高龙鑫 |
主权项 |
1、一种用于场发射装置的阴极喷涂屏蔽,其特征在于包括有:具有外侧面及内侧面的片状基材,并且该外侧面于喷涂时面对喷涂源,且该内侧面于喷涂时面对阴极基板;其中该片状基材具有一预定范围的厚度;其中该片状基材具有数个孔槽,该孔糟的外侧面宽度为孔槽外径,该孔槽的内侧面宽度为孔槽内径;其中该孔槽外径小于该孔槽内径。 |
地址 |
台湾省台北市 |