发明名称 用于场发射装置的阴极喷涂屏蔽
摘要 本实用新型公开了一种用于场发射装置的阴极喷涂屏蔽,对于一般场发射显示或光源的构造提供一阴极喷涂屏蔽,以方便施行阴极喷涂制程,该阴极喷涂屏蔽包括有片状基材,具有外侧面及内侧面,且该外侧面于喷涂时面对喷涂源,且该内侧面于喷涂时面对阴极基板,其是以外窄内宽的孔槽技术施行于极喷涂屏蔽,于使用喷涂方法涂布阴极纳米碳管层时得到精确且质量优良的效果,据此:一、可提供一精度良好,能防止喷涂毛边的较佳构造;二、易于省去后续加工;三、不影响现有制程设备而实时可用。
申请公布号 CN2718770Y 申请公布日期 2005.08.17
申请号 CN200420073209.2 申请日期 2004.06.24
申请人 东元奈米应材股份有限公司 发明人 郭志彻;萧俊彦
分类号 H01J9/02;H01J1/304;H01J29/04 主分类号 H01J9/02
代理机构 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人 王玉双;高龙鑫
主权项 1、一种用于场发射装置的阴极喷涂屏蔽,其特征在于包括有:具有外侧面及内侧面的片状基材,并且该外侧面于喷涂时面对喷涂源,且该内侧面于喷涂时面对阴极基板;其中该片状基材具有一预定范围的厚度;其中该片状基材具有数个孔槽,该孔糟的外侧面宽度为孔槽外径,该孔槽的内侧面宽度为孔槽内径;其中该孔槽外径小于该孔槽内径。
地址 台湾省台北市