| 发明名称 | 用于钌的化学机械抛光的溶液 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种用于钌的化学机械抛光的溶液，其包含硝酸和氧化剂。还公开了用抛光的钌层来形成钌图案的方法。所公开的溶液提高了低抛光压力下钌的抛光速度，减少了钌的表面凹陷，并且降低了在层间绝缘薄膜中产生的划痕。因此，所公开的溶液和方法可以改进了装置隔离的技术，并减少覆盖的步骤。 | ||
| 申请公布号 | CN1215199C | 申请公布日期 | 2005.08.17 |
| 申请号 | CN02159045.1 | 申请日期 | 2002.12.27 |
| 申请人 | 海力士半导体有限公司 | 发明人 | 李宇镇 |
| 分类号 | C23F3/06;C23F1/30 | 主分类号 | C23F3/06 |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 宋莉;贾静环 |
| 主权项 | 1.一种用于钌抛光的化学机械抛光的溶液，包含浓度为0.01～5M的硝酸和浓度为0.01～5M的硝酸铈铵(NH4)2Ce(NO3)6作为氧化剂；其中该溶液的pH范围为1～5，且该机械抛光溶液不包括研磨剂。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||