蚀刻方法与蚀刻装置

摘要

提供一种蚀刻方法与装置，在微细化的图案上也能抑制侧面蚀刻的进行，高效地形成高精细的图案。对蚀刻对象物EO进行蚀刻的构成是：将蚀刻液EL与气体GS混合由2流体喷嘴N进行喷射，与蚀刻对象物EO碰撞时的蚀刻液的微小液滴ES的速度为30～300m/秒，发生粒径为15～100μm的蚀刻液的微小液滴ES，蚀刻对象物EO与2流体喷嘴N的间距d为50～500mm，将蚀刻液的微小液滴ES喷射在蚀刻对象物EO上，沿着掩模层的图案将导电层蚀刻，将电路部形成图案等。

主权项

1.一种蚀刻方法，其特征在于具有：将蚀刻液与气体混合由两流体喷嘴喷射，以发生蚀刻液的微小液滴的工序；将蚀刻对象物与上述两流体喷嘴的间距设定为50～500mm，将上述蚀刻液的微小液滴喷射在上述蚀刻对象物上，对上述蚀刻对象物进行蚀刻的工序；在前述两流体喷嘴喷射时，在该两流体喷嘴的喷射口附近设置遮蔽板，将由该喷射口倾斜地进行的成分遮蔽。