发明名称 | 磁复制方法 | ||
摘要 | 在从属介质的两个面上,利用磁复制可复制出品位高的复制图案。磁复制方法是,在将磁复制用主载体和从属介质紧密接触,施加复制用磁场,对磁记录介质每个单面进行磁复制的方法中,向从属介质的在先磁复制面进行磁复制中使用的磁复制用主载体磁性层的饱和磁化(Ms1)和膜厚(δ1)之积(Ms1 δ1),与从属介质的在后复制面进行复制使用的主载体磁性层的饱和磁化(Mδ2)和膜厚(δ2)之积(Ms2 δ2)存在1.5<(Ms2 δ2)/(Ms1 δ1)<10的关系,向在先磁复制面的复制磁场(Hdu1)和在后复制介质面的复制磁场(Hdu2)存在0.2≤Hdu2/Hdu1≤0.9的关系。 | ||
申请公布号 | CN1215468C | 申请公布日期 | 2005.08.17 |
申请号 | CN01118028.5 | 申请日期 | 2001.05.15 |
申请人 | 富士胶片株式会社 | 发明人 | 西川正一 |
分类号 | G11B5/86;G11B5/84 | 主分类号 | G11B5/86 |
代理机构 | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 | 代理人 | 程凤儒 |
主权项 | 1.一种磁复制方法,在将磁复制用主载体和从属介质紧密接触,施加复制用磁场,对从属介质的每个单面进行磁复制方法中,其特征是对从属介质的在先磁复制面进行磁复制使用的磁复制用主载体磁性层的饱和磁化(Ms1)和膜厚(δ1)之积(Ms1δ1),与从属介质在后复制面进行复制使用的磁复制用主载体磁性层的饱和磁化(Ms2)和膜厚(δ2)之积(Ms2δ2),存在1.5<(Ms2δ2)/(Ms1δ1)<10的关系,在先磁复制面的复制磁场(Hdul)和在后复制的从属介质面的复制磁场(Hdu2),存在0.2≤Hdu2/Hdul≤0.9的关系。 | ||
地址 | 日本神奈川县 |