发明名称 |
一种制造半导体器件的方法及其半导体器件 |
摘要 |
本发明涉及制造半导体器件的方法及其器件。在适当制备的衬底上,进行选择性蚀刻工艺,露出沟道区的侧面(晶体管本体)。非常薄的硅化停止材料层,例如SiGe位于蚀刻区,覆盖沟道区的露出侧面。硅化停止材料针对制成的MOSFET类型(n沟道或p沟道)适当地掺杂(高度地)。然后,蚀刻区填充硅,例如通过Si处理工艺。然后在新填充的区域上进行硅化(形成例如CoSi<SUB>2</SUB>)。硅化停止材料限制对硅填充材料的硅化,但防止硅化物延展越过硅化停止材料。 |
申请公布号 |
CN1655332A |
申请公布日期 |
2005.08.17 |
申请号 |
CN200410094949.9 |
申请日期 |
2004.11.19 |
申请人 |
国际商业机器公司 |
发明人 |
奥列格·G·格鲁钦科夫;小西里尔·卡布拉尔;奥马尔·多库马西;克里斯蒂安·拉瓦伊 |
分类号 |
H01L21/336;H01L21/8234;H01L29/78;H01L27/092 |
主分类号 |
H01L21/336 |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
付建军 |
主权项 |
1.一种形成半导体器件的方法,包含:提供一半导体结构,该结构包含硅衬底和在该硅衬底上形成的栅极结构,所述栅极结构还包含栅极接触和栅极绝缘体;在所述衬底上选择性地形成蚀刻区,露出在所述栅极结构下方的沟道区的侧面;在所述蚀刻区内设置硅化停止材料形成的高度掺杂薄层;在所述硅化停止材料上方在所述蚀刻区内设置硅填料;以及执行硅化过程,在所述硅填料中形成硅化物,从而形成源/漏极硅化物区。 |
地址 |
美国纽约 |