发明名称 | 剥离膜 | ||
摘要 | 本发明提供在表面有适度凹凸的聚酯基膜上具有硅氧烷剥离层、或者在表面平坦的聚酯基膜上具有有适度凹凸的硅氧烷剥离层的剥离膜。该剥离膜是具有不将剥离膜表面的凹凸转印在成形片材上的优异的表面特性、同时加工性能优异、剥离特性也良好的剥离膜。 | ||
申请公布号 | CN1655927A | 申请公布日期 | 2005.08.17 |
申请号 | CN03812409.2 | 申请日期 | 2003.05.23 |
申请人 | 帝人杜邦菲林日本株式会社 | 发明人 | 西山公典 |
分类号 | B32B27/00 | 主分类号 | B32B27/00 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 郭煜;庞立志 |
主权项 | 1.一种剥离膜,其特征在于:包括(a)具有中心线平均粗糙度Ra为15nm以下且十点平均粗糙度Rz为30-500nm的表面的聚酯膜、以及(b)在上述聚酯膜的上述表面上形成且厚度为上述表面的Rz的0.8倍以下的硅氧烷剥离层。 | ||
地址 | 日本东京都 |