| 发明名称 |
METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE BY A PLASMA PROCESSING METHOD |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1563535(A1) |
申请公布日期 |
2005.08.17 |
| 申请号 |
EP20030774103 |
申请日期 |
2003.11.20 |
| 申请人 |
MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD. |
发明人 |
ARITA, KIYOSHI |
| 分类号 |
H01L21/00;H01L21/301;H01L21/3065;H01L21/311;H01L21/68;H01L21/683;H01L21/78;(IPC1-7):H01L21/78 |
主分类号 |
H01L21/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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