发明名称 | 用于汽相淀积设备中的制品支架 | ||
摘要 | 对一系列制品进行表面处理的方法,在一处理室中对所述制品的表面进行处理。所述制品的支承装置可以由各包括许多隔间的顶笼和底笼构成,所述底笼和底笼可在长度方向上开闭。所述支承装置可由可在长度方向上开闭折合的板状部件构成,展开时可形成一系列狭部,其长度对应于待处理制品的内径。一种表面处理设备,其包括一个在于处理室中的处理材料源,旋转支承所述制品的支承装置的旋转装置使所述制品绕其自身的轴线、或公共旋转轴线、或两者旋转的情况下,进行均一的表面处理。 | ||
申请公布号 | CN1654705A | 申请公布日期 | 2005.08.17 |
申请号 | CN200510004777.6 | 申请日期 | 1999.09.29 |
申请人 | 株式会社新王磁材 | 发明人 | 枥下佳己;藤原好雄;浅贝义宏;太田垣谦 |
分类号 | C23C14/50;C23C16/458 | 主分类号 | C23C14/50 |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 郭小军 |
主权项 | 1.一种用于在汽相淀积设备中保持用于汽相淀积的制品的制品支架,包括,一个基本上管状的主体,所述主体的内直径尺寸构成适合保持所述制品,所述主体由连续绕制的丝状物制成,所述连续绕制的丝状物在相对的两端具有螺旋形卷绕的线圈并形成了末端封闭部分,以防止制品从其中取出,和一个在所述末端封闭部分之间延伸的中间部分,所述中间部分中具有以相互间隔的关系设置的线圈,从而限定了使保持在所述制品支架中的制品暴露出来以从支架外侧进行表面处理的空间。 | ||
地址 | 日本大阪 |