| 发明名称 | 衬底及与该结构的制造相关的工艺 | ||
| 摘要 | 本发明涉及用于纳米印制光刻的一种衬底(1)，该衬底至少包括布置在衬底的一个表面上的一个第一涂层(2)和一个第二涂层(8)，所述第一涂层(2)由一种正抗蚀剂组成，而所述第二涂层(8)由一种负抗蚀剂组成。本发明还涉及与在衬底(1)上的纳米印制光刻相关的一种工艺，在第一阶段中将一个纳米尺寸的图案(3)通过模板(610)压印在第二涂层(8)中，然后，在第二阶段中，在第一阶段中暴露出的第一涂层(2)的表面上对其进行一个基本上各向同性的显影法，选择显影方法和所述第一和第二涂层所用的材料，使得第一涂层(2)的显影比第二涂层(8)的显影更快，从而在涂层中得到一个底切轮廓。 | ||
| 申请公布号 | CN1215528C | 申请公布日期 | 2005.08.17 |
| 申请号 | CN01811373.7 | 申请日期 | 2001.04.10 |
| 申请人 | 奥布杜卡特公司 | 发明人 | 巴贝克·海达里 |
| 分类号 | H01L21/00;G03F7/00;B41M1/06;B81C1/00 | 主分类号 | H01L21/00 |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 李晓舒;魏晓刚 |
| 主权项 | 1.一种用于纳米印制光刻的衬底(1)，该衬底至少包括在该衬底的一个表面上的一第一涂层(2)和一第二涂层(8)，其特征在于：所述第一涂层(2)由一种正抗蚀剂组成，而所述第二涂层(8)由一种负抗蚀剂组成。 | ||
| 地址 | 瑞典马尔默 | ||