| 摘要 |
一种化学气相成长装置及膜之成长方法。提供能够防止微粒粒附于衬底，成长高质量薄膜的化学气相成长装置。其包括：真空处理室(4)，使复数枚衬底(3)的薄膜成长面朝下之基座(2)，配置于基座(2)上方之加热器(11)，将阻挡气体提供给基座(2)的上表面之第1阻挡气体提供给部分(9)，将阻挡气体提供给加热器(11)的上表面之第2阻挡气体提供给部分(10)，由第1阻挡气体提供给部分(9)及第2阻挡气体提供给部分(10)提供给的阻挡气体分别独立控制其流量。通过适当地设定从第1阻挡气体提供给部分(9)及第2阻挡气体提供给部分(10)提供给的阻挡气体之流量比，及阻挡气体的提供量和原料气体之提供量比，能够形成抑制微粒粒附之膜。 |
