雷射退火方法及雷射退火装置

摘要

本发明系使藉由调变器所时间调变之雷射光以光束整形器整形为细长形状光束时，藉由光束整形器使细长形状光束之扫描方向尺寸成为2～10微米，而成为2～4微米更佳；使扫描速度成为300～1000mm／s，而成为500～1000mm／s更佳，藉此可使得雷射光之能量利用效率变佳，进一步难以于矽薄膜产生损伤。藉此，可以高产出量扫描照射雷射光之基板上之特定区域，得到横方向成长结晶(带状结晶)区域。