离子束监控配置

摘要

本发明关于用于离子植入机之离子监控配置，其中需求监控用于植入之离子束的通量及／或剖面轮廓。通常需求测量在一离子植入机内之离子束的通量及／或剖面轮廓，以增进半导体晶圆或类似物之离子植入的控制。本发明描述适应该晶圆支承座，以允许施行此射束轮廓测量。可使用该基材支承座以逐渐对下游之通量监控器阻挡该离子束，或者是一通量监控器可位于具有狭缝入口孔隙之该晶圆支承座上。