用于监测积体电路制程之方法及系统

摘要

本发明系有关于一种用于测定制程均匀性之方法及系统。该方法系包括选定多数个取样区域。该多数个取样区域系包括多数个制程特征，且各个该多数个取样区域系包括该多数个制程特征的至少其中之一。各个该多数个制程特征系由至少一制造制程所产生。此外，该方法系包括取得分别与该多数个取样区域相连结的多数个电子显微镜影像，处理与该多数个电子显微镜影像相连结的资讯，以及分别测定该多数个取样区域的一第一复数灰阶值。另外，该方法系包括处理与该第一复数灰阶值相连结的资讯，以及测定该至少一制造制程是否为均匀。