使用增强干扰制图微影术之特征最适化作用

摘要

本发明所揭示之概念包括一种用于最适化一待使用一光学系统相对于一给定光罩在一基板之表面中形成的图案之强度分布的方法及程式产品。步骤包括：数学表示来自该给定光罩之可解析特征，产生一表示该光学系统之某些特性之数学表达式(即，特征函数)，藉由过滤来修正该数学特征函数，根据该经过滤的特征函数及给定光罩之数学表达式产生一干扰图，且基于该干扰图确定该给定光罩之辅助特征。从而，可将该基板之表面内的不当印刷降至最低。