沈积之介质膜上之显影后光阻轮廓的改良方法

摘要

本发明系说明在沈积之介质膜上之显影后光阻轮廓的改良方法及装置。本方法包含利用一电浆加强化学蒸气沈积处理来沈积一具有可调光学及抗蚀刻特性之TERA薄膜于一基板上，并利用一电浆处理来进行后处理该TERA薄膜。装置包含一具有一耦合至一第一射频源之上部电极以及一耦合于一第二射频源之基板支座的处理室；以及一用以提供复数个先驱物及处理气体之簇射头。