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发明名称
微影装置及器件制造方法
摘要
一种由多个元件组成之个别可控元件阵列,每一元件由介电材料层之堆叠所形成,其中至少一层系一电光材料,使得可藉由施加一电压来改变其对于在一给定方向中被平面偏光之辐射之折射率,以改变该层与相邻层之间之边界的反射/透射特征。
申请公布号
TW200527151
申请公布日期
2005.08.16
申请号
TW093132822
申请日期
2004.10.28
申请人
ASML公司
发明人
爱诺 詹 柏里克
分类号
G03F7/20
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
荷兰
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