| 摘要 |
本发明系形成一种于利用真空紫外线区域光线之光微影制程，具有充分的防反射效果，而且于显像制程中具有充分的显像特性之光阻层合体。其为包含(I)于基板上形成光阻层(L1)之步骤、及(II)于光阻层(L1)上藉由涂布含有具亲水性基Y的含氟聚合物(A)之涂覆组成物形成防反射层(L2)之步骤的光阻层合体之形成方法，其特征为，含氟聚合物(A)含有来自具亲水性基Y的含氟乙烯性单体之结构单元，而且该含氟聚合物(A)为(i)亲水性基Y含有pKa为11以下的酸性OH基、(ii)氟含有率为50质量％以上、及(iii)含氟聚合物(A)100g中之亲水性基Y的莫耳数为0.14以上者。 |
