发明名称 |
具有污染抑制之微影装置,元件制造方法,以及由此制造之元件 |
摘要 |
本发明系关于一种具有一用于提供一辐射投影光束之辐射系统的微影投影装置。该投影装置包含一用于将吸气剂粒子供应至该辐射投影光束之粒子供应单元(22)以充当一用于在该投影光束中的污染粒子之吸气剂,该等吸气剂粒子具有至少1nm之一直径,且较佳在1000nm以下。在一实施例中,该微影投影装置具有一污染物捕集器(9;50;55;67),该捕集器具有用于在该投影光束中攫取污染粒子之平板部件(52;57;59;69);及一粒子供应单元(22;45、54、58;65;71),其在位于该污染物捕集器上游之一空间中提供粒子,使得该等粒子与污染粒子相撞以提供具有朝向该等平板部件(52;57、59;69)之一额外速度分量之污染粒子。 |
申请公布号 |
TW200527156 |
申请公布日期 |
2005.08.16 |
申请号 |
TW093134347 |
申请日期 |
2004.11.10 |
申请人 |
ASML公司 |
发明人 |
李唯纳斯 派特 贝克;维定 亚根亚齐 般尼;威兰米尔 威多微齐 爱芙诺;康士坦丁 尼克拉维齐 卡希里夫;NIKOLAEVITCH;威兰米尔 米哈拉微齐 卡里森;MIHAILOVITCH |
分类号 |
G03F7/20 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
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地址 |
荷兰 |