发明名称 无滴落喷管装置
摘要 根据本发明之一态样,本发明提供了一种用于一晶圆处理装置之分配头。该分配头可包含一入口、至少一出口、一排放口,及一穿过其中且与通道该入口、该出口与该排放口互连之通道。该入口可位于该通道之底部上方之一第一高度处,该出口可位于该底部上方之一第二高度处,且该排放口可位于该底部上方之一第三高度处。一第一阀可连接至该入口,且一第二阀可连接至该排放口。当该第一阀打开且该第二阀关闭时,流体流入该入口且自该出口流出。当该第二阀打开且该第一阀关闭时,流体自该通道流出该排放口。一泵可连接至该排放口。
申请公布号 TW200527490 申请公布日期 2005.08.16
申请号 TW093140143 申请日期 2004.12.22
申请人 ASML控股公司 发明人 安德鲁 古颜
分类号 H01L21/00 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 荷兰