发明名称 | 雷射处理基板以及应用雷射处理此种基板的方法 | ||
摘要 | 一种雷射处理基板以及应用雷射处理此种基板的方法,此一雷射处理基板系至少由一基板与一保护层所组成,其中基板具有一雷射光入射面以及与其相对之一面,而保护层可位于基板的雷射光入射面、与其相对之面上或是两面皆有,且保护层之折射率范围在基板的折射率与空气的折射率之间。由于保护层可降低雷射光在介面的反射率,所以当保护层位于与雷射光入射面之相对面时,可防止基板在此面产生破裂。再者,当保护层位于雷射光入射面时,不但可增加雷射对基板的切割效率,同时能藉由切割后将保护层去除的方式,一并去除雷射切割后的残留物。 | ||
申请公布号 | TW200526348 | 申请公布日期 | 2005.08.16 |
申请号 | TW093102465 | 申请日期 | 2004.02.04 |
申请人 | 元砷光电科技股份有限公司 | 发明人 | 许生杰;洪文庆;古锦福 |
分类号 | B23K26/18;B23K26/16 | 主分类号 | B23K26/18 |
代理机构 | 代理人 | 詹铭文;萧锡清 | |
主权项 | |||
地址 | 台南县新市乡台南科学工业园区大顺九路16号 |