发明名称 | 涂膜形成装置及涂膜形成方法 | ||
摘要 | 提供可抑制基板表面之复制痕迹之发生且防止粒子附着于基板内面之涂膜形成装置及涂膜形成方法。抗蚀剂涂布装置(CT)具有设有用以喷射预定气体之多数气体喷射口的载台、在载台上朝X方向搬运LCD基板G的基板搬运机构13、将抗蚀剂供给至移动在载台上之LCD基板G表面的抗蚀剂供给喷嘴。LCD基板G藉着从气体喷射口喷射之气体而使LCD基板G以略水平姿势浮起于载台表面的状态,藉着基板搬运机构而搬运于载台上。 | ||
申请公布号 | TW200527493 | 申请公布日期 | 2005.08.16 |
申请号 | TW093141371 | 申请日期 | 2004.12.30 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 山崎刚;宫崎一仁;立山清久 |
分类号 | H01L21/00;H01L49/02 | 主分类号 | H01L21/00 |
代理机构 | 代理人 | 恽轶群;陈文郎 | |
主权项 | |||
地址 | 日本 |