发明名称 液晶显示装置及其制造方法
摘要 一种液晶显示装置,其包含一对透明基板,一液晶层夹于该透明基板之内表面之间,以及一对光学处理膜,各经由一透明胶黏层黏贴在该透明基板之外表面,该透明胶黏层具有一面对该光学处理膜之外表面,其中每一透明基板之外表面具有一第一Ra表面粗糙度,且该胶黏层之外表面具有一第二Ra表面粗糙度小于该第一Ra表面粗糙度。本发明另提供一种制造该液晶显示装置之方法。
申请公布号 TWI237716 申请公布日期 2005.08.11
申请号 TW090131585 申请日期 2001.12.18
申请人 奇美电子股份有限公司 发明人 龙兴助;温俊斌;曾弘毅;韦光忠
分类号 G02F1/13 主分类号 G02F1/13
代理机构 代理人 花瑞铭 高雄市前镇区中山二路7号14楼之1
主权项 1.一种液晶显示装置,其包含:一对透明基板;一液晶层夹设于该透明基板之内表面之间;以及一对光学处理膜,各经由一透明胶黏层黏贴在该透明基板之外表面,该透明胶黏层具有一面对该光学处理膜之外表面,其中每一透明基板之外表面具有一第一Ra表面粗糙度,且该胶黏层之外表面具有一第二Ra表面粗糙度小于该第一Ra表面粗糙度。2.依申请专利范围第1项之液晶显示装置,其中该第一Ra表面粗糙度系在介于约0.1毫米至约0.001毫米之范围内。3.依申请专利范围第2项之液晶显示装置,其中该第一Ra表面粗糙度系约0.035毫米。4.依申请专利范围第1项之液晶显示装置,其中该透明基板具有一折射率ng,以及该透明胶黏层具有一折射率在介于约1至约(2ng-1)的范围内。5.依申请专利范围第4项之液晶显示装置,其中该透明胶黏层之折射率系大致相等于该透明基板之折射率。6.依申请专利范围第1项之液晶显示装置,其中该透明胶黏层具有一大于99%之透光度。7.依申请专利范围第1项之液晶显示装置,其中该透明胶黏层之厚度至少需使该透明基板的外表面平坦化。8.依申请专利范围第1项之液晶显示装置,其中该光学处理膜包含一偏光膜。9.依申请专利范围第1项之液晶显示装置,其中该光学处理膜包含一补偿膜。10.一种用以制造一液晶显示装置之方法,该方法包含以下步骤:提供一液晶显示单元,其包含一对透明基板以及一液晶层夹设于该透明基板之内表面之间;削减该透明基板之厚度使得该透明基板之外表面具有一第一Ra表面粗糙度;以及利用一透明胶黏层将一光学处理膜黏贴在该透明基板之外表面上,其中该透明胶黏层具有一外表面面对该光学处理膜并具有一第二Ra表面粗糙度小于该第一Ra表面粗糙度。11.依申请专利范围第10项之用以制造液晶显示装置之方法,其中该第一Ra表面粗糙度系在介于约0.1毫米至约0.001毫米之范围内。12.依申请专利范围第11项之用以制造液晶显示装置之方法,其中该第一Ra表面粗糙度系约0.035毫米。13.依申请专利范围第10项之用以制造液晶显示装置之方法,其中该透明基板具有一折射率ng,以及该透明胶黏层具有一折射率在介于约1至约(2ng-1)的范围内。14.依申请专利范围第13项之用以制造液晶显示装置之方去,其中该透明胶黏层之折射率系大致相等于该透明基板之折射率。15.依申请专利范围第10项之用以制造液晶显示装置之方法,其中该透明胶黏层具有一大于99%之透光度。16.依申请专利范围第10项之用以制造液晶显示装置之方法,其中该透明基板厚度削减步骤系藉由一研磨制程达成。17.依申请专利范围第10项之用以制造液晶显示装置之方法,其中该透明基板厚度削减步骤系藉由一蚀刻制程达成。18.依申请专利范围第10项之用以制造液晶显示装置之方法,其中该光学处理膜包含一偏光膜。19.依申请专利范围第10项之用以制造液晶显示装置之方法,其中该光学处理膜包含一补偿膜。20.一种液晶显示装置,其包含:一对透明基板;一液晶层夹设于该透明基板之内表面之间;以及一透明层形成在该透明基板之外表面,该透明层具有一相对之内表面及外表面,其中该内表面系面对该透明基板;其中每一透明基板之外表面具有一第一Ra表面拉糙度,且该透明层之外表面具有一第二Ra表面粗糙度小于该第一Ra表面粗糙度。21.依申请专利范围第20项之液晶显示装置,其中该第一Ra表面粗糙度系在介于约0.1毫米至约0.001毫米之范围内。22.依申请专利范围第21项之液晶显示装置,其中该第一Ra表面粗糙度系约0.035毫米。23.依申请专利范围第20项之液晶显示装置,其中该透明基板具有一折射率ng,以及该透明层具有一折射率在介于约1至约(2ng-1)的范围内。24.依申请专利范围第23项之液晶显示装置,其中该透明层之折射率系大致相等于该透明基板之折射率。25.依申请专利范围第20项之液晶显示装置,其中该透明层具有一大于99%之透光度。26.依申请专利范围第20项之液晶显示装置,其中该透明胶黏层之厚度至少需使该透明基板的外表面平坦化。27.一种用以制造一液晶显示装置之方法,该方法包含以下步骤:提供一液晶显示单元,其包含一对透明基板以及一液晶层夹设于该透明基板之内表面之间;削减该透明基板之厚度使得该透明基板之外表面具有一第一Ra表面粗糙度;以及形成一透明层于该透明基板之外表面上,其中该透明层具有一内表面面对该透明基板,该透明层之外表面具有一第二Ra表面粗糙度小于该第一Ra表面粗糙度。28.依申请专利范围第27项之用以制造液晶显示装置之方法,其中该第一Ra表面粗糙度系在介于约0.1毫米至约0.001毫米之范围内。29.依申请专利范围第28项之用以制造液晶显示装置之方法,其中该第一Ra表面粗糙度系约0.035毫米。30.依申请专利范围第27项之用以制造一晶显示装置之方法,其中该透明基板具有一折射率ng,以及该透明胶黏层具有一折射率在介于约1至约(2ng-1)的范围内。31.依申请专利范围第30项之用以制造液晶显示装置之方法,其中该透明胶黏层之折射率系大致相等于该透明基板之折射率。图式简单说明:第1图:系为一传统液晶显示装置制程之流程图;第2图:根据本发明一较佳实施例之液晶显示装置之横截面简图;第3图:根据本发明另一较佳实施例之液晶显示装置之横截面简图;第4图:系为第2图所示之液晶显示装置之局部放大图;第5图:系为本发明提供之液晶显示装置制程之流程图;第6A图:根据本发明另一较佳实施例之液晶显示单元未削减前之横截面简图;以及第6B图:系为第6A图之液晶显示单元削减后之横截面简图。
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