发明名称 正型光阻组成物及其使用之含有酸解离性基的单体
摘要 含有(A)下述单位之聚合物及(B)产酸剂之组成物。若根据本发明,则可提供可廉价形成感度、解像性、电子射线耐性及截面形状为优良图型之ArF用正型光阻组成物,及含有酸解离性基之单体。
申请公布号 TWI237739 申请公布日期 2005.08.11
申请号 TW088121599 申请日期 1999.12.09
申请人 东京应化工业股份有限公司 发明人 羽田英夫;岩井武;藤村悟史;片岛美和
分类号 G03F7/039;C08L35/00 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 1.一种正型光阻组成物,其特征为含有(A)含有至少 下列一般式(Ⅰ)所示单位、与至少1种选自顺丁烯 二酸酐及如一般式(Ⅱ)所示的多环式烯烃所衍生 出之可共聚合的单体单位之共聚合物、(B)经由放 射线之照射而产生酸之化合物以及有机胺,其中(A) 成分为含有15-50莫耳%之一般式(Ⅰ)的单位,而(A)成 分的重量平均分子量为2000-15000,对(A)成分而言,(B) 成分为0.1-20重量%,对(A)成分而言,有机胺为0.1-5重 量%, (式中,R为表示氢原子或碳数为1-3的烷基,R1为表示 碳数为2-4之烷基,n为0或1), (式中R和n为同前述,R2为氢原子、羧基或具有至少 一个羟基之碳数1-10个之烷氧羰基)。 2.如申请专利范围第1项之正型光阻组成物,其中(A) 成分为含有至少下列一般式(Ⅲ)所示单位之聚合 物 (式中R、R1及n为同前述)。 3.如申请专利范围第2项之正型光阻组成物,其中(A) 成分为含有至少该一般式(Ⅲ)及下列一般式(Ⅳ)所 示单位之聚合物 (式中R为同前述,R3为具有羟基之碳数1-10个之烷基, m为0或1)。 4.如申请专利范围第1项之正型光阻组成物,其中(A) 成分为含有下列至少三个单位之一般式(Ⅴ)所示 之聚合物 (式中R、R1、及n为同前述,R4为具有至少一个羟基 之碳数1-10个之烷氧羰基)。 5.如申请专利范围第3项之正型光阻组成物,其中R3 为低级之单羟烷基或低级之二羟烷基。 6.如申请专利范围第5项之正型光阻组成物,其中R3 为2-羟丙基。 7.如申请专利范围第1项之正型光阻组成物,其为再 将有机羧酸或磷之含氧酸或其衍生物,相对于(A)配 合以0.01-5重量%。 8.如申请专利范围第1项之正型光阻组成物,其为再 将胆汁酸与酸解离性基之酯类,相对于(A)配合以1- 100重量%。 9.如申请专利范围第8项之正型光阻组成物,其中胆 汁酸酯为胆酸、脱氧胆酸、熊胆酸及石胆酸。 10.一种使用于正型光阻的含酸解离性基之单体,其 特征为该酸解离性基为如下一般式(Ⅵ)所示者, (式中R为表示氢原子或低烷基,R1为表示碳数2个以 上之烷基,n表示0或1)。
地址 日本