| 主权项 |
1.一种具有真空室(1)之带状涂层用之设备,其在一 后壁(18)和至少一可取下之密封板(22)之间具有一 种包含一平坦外盖(10)之框架(20),该真空室(1)中配 置至少一滑动滚筒(12,13,14,15)和一涂层滚筒(9)(其 包含一轴(A))以及至少一涂层源(39a,39b,39c),其特征 是:至少一滑动滚筒(12,13,14,15)-和该涂层滚筒(9)之 面向该密封板(22)之末端经由各承载元件(16,17和19) 利用轴承而固定在该外盖(10)上且该涂层滚筒(9)下 方之真空室(1)中之空间未具备该承载元件而固定 着。 2.如申请专利范围第1项之带状涂层用之设备,其中 至少一滑动滚筒(12,13,14,15)和该涂层滚筒(9)以其远 离该密封板(22)之末端而定位在该后壁(18)上。 3.如申请专利范围第1项之带状涂层用之设备,其中 至少一滑动滚筒(12,13,14,15)和该涂层滚筒(9)以其远 离该密封板(22)之末端而定位在该后壁(18)前之承 载元件上且固定在该外盖(10)上。 4.如申请专利范围第1项之带状涂层用之设备,其中 该涂层滚筒(9)下方和侧面之空间藉由隔离壁(6)而 划分成至少二个子室(3,4,5)且该隔离壁(6)在其面向 该涂层滚筒(9)之末端具有密封元件(7),其弯曲度须 依据该涂层滚筒(9)之半径来调整,使各密封元件(7) 和该涂层滚筒(9)之间形成弧形之密封间隙。 5.如申请专利范围第4项之带状涂层用之设备,其中 各密封元件(7)经由设定机构(8)而与各别所属之隔 离壁(6)相连接,使各密封间隙在径向中可调整至尽 可能小之値。 6.如申请专利范围第1项之带状涂层用之设备,其中 在真空室(1)内部中在该涂层滚筒(9)之周围藉由隔 离壁(6)而形成至少4个子室(2,3,4,5)。 7.如申请专利范围第4至6项中任一项之带状涂层用 之设备,其中该二个最上方之隔离壁(6)相对于该轴 (A)而向下形成一种介于120和180之间之角度。 8.如申请专利范围第7项之带状涂层用之设备,其中 该框架(20)之位于该二个最上方之隔离壁(6)下方之 周围之一部份是以部份圆柱之形式而形成。 9.如申请专利范围第8项之带状涂层用之设备,其中 位于该二个最上方之隔离壁(6)之上方之子室(2)中 配置总共4个滑动滚筒(12,13,14,15)。 10.如申请专利范围第4至6项中任一项之带状涂层 用之设备,其中各隔离壁(6)在其远离该后壁(18)之 末端上具有径向延伸之密封条(23),该密封板(22)可 针对各密封条而被导引至该设备。 11.如申请专利范围第10项之带状涂层用之设备,其 中各密封条(23)具有平行于其径向之中线而延伸之 弹性之密封边缘,在该真空室(1)关闭时该密封板(22 )可针对各密封边缘而被导引至该设备。 12.如申请专利范围第11项之带状涂层用之设备,其 中该涂层滚筒(9)具有一种面向该密封板(22)之正侧 ,该正侧前配置一种位置固定之环形区(47),该环形 区抓握该部份周长上之涂层滚筒(9)用之承载元件( 19)之下端。 13.如申请专利范围第4至6项中任一项之带状涂层 用之设备,其中该涂层滚筒(9)在各子室(3,4,5)内部 中在其末端上由条形之圆柱共轴之弯曲遮蔽件(52) 所围绕,各遮蔽件利用狭窄之间隙抓握在上述之末 端上且该涂层滚筒(9)针对该涂层而屏蔽其未由导 带(45)所覆盖之表面部份。 14.如申请专利范围第13项之带状涂层用之设备,其 中该前方之遮蔽件(52)具有一弹性之密封边缘,在 该真空室(1)关闭时该密封板(22)可针对各密封边缘 而被导引至该设备。 15.如申请专利范围第13项之带状涂层用之设备,其 中环形区(47)在周围延伸至其在前方之遮蔽件(52) 内部中之末端边缘(47a)为止。 16.如申请专利范围第14项之带状涂层用之设备,其 中该环形区(47)在周围延伸至其在前方之遮蔽件(52 )内部中之末端边缘(47a)为止。 17.如申请专利范围第1项之带状涂层用之设备,其 中该设备之总高度由该设定面开始最大是2.5M(米) 。 18.如申请专利范围第1项之带状涂层用之设备,其 中该真空室(1)在该涂层滚筒(9)之二侧分别具有一 种侧室(25,26),其中分别配置下卷滚筒(44)和上卷滚 筒(46)用之卷线心轴(27或28)以及配置导带(45)用之 所属之滑动滚筒(29,30或31,32)。 19.如申请专利范围第18项之带状涂层用之设备,其 中各侧室(25,26)以真空室构成且经由该导带(45)之 出口用之狭缝形式之间隙(33,34)而与该真空室(1)之 子室(2)相连。 20.如申请专利范围第18项之带状涂层用之设备,其 中该真空室(1)之全部之子室(2,3,4,5)和各侧室(25,26) 分别连接至一狭窄之真空泵(35)中。 21.如申请专利范围第18项之带状涂层用之设备,其 中各侧室(25,26)之上侧至少位于一与该真空室(1)之 外盖(10)相同之高度处。 22.如申请专利范围第19项之带状涂层用之设备,其 中各侧室(25,26)之上侧至少位于一与该真空室(1)之 外盖(10)相同之高度处。 23.如申请专利范围第20项之带状涂层用之设备,其 中各侧室(25,26)之上侧至少位于一与该真空室(1)之 外盖(10)相同之高度处。 图式简单说明: 第1图 藉由该密封壁之驶出使该涂层系统移出之 后一已敞开之真空设备之透视图,其具有一涂层室 和二个闸室,但图中未显示该导带运行路径。 第2图 由较高之视角观看时,一种密封壁之透视图, 其具有由三个涂层源所构成之涂层系统。 第3图 依据第1,2图以二个操作人员来分开运行之 设备之垂直视图之一部份。 第4图 已敞开之真空设备之已大大地简化之前视 图,其具有容纳各导带用之下卷-或上卷滚筒所需 之一涂层室和侧室且显示导带运行路径,但未显示 该密封壁。 第5图 类似于第4图之前视图,但不同处是:各侧室 相对于该涂层室而构成各闸室。 |
