| 发明名称 |
Barrier layer process and arrangement |
| 摘要 |
A method an apparatus is described using atomic layer deposition to form a barrier layer onto a substrate. The coated substrate exhibits reduced permeation to oxygen and water vapor.
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| 申请公布号 |
US2005172897(A1) |
申请公布日期 |
2005.08.11 |
| 申请号 |
US20040774841 |
申请日期 |
2004.02.09 |
| 申请人 |
JANSEN FRANK |
发明人 |
JANSEN FRANK |
| 分类号 |
C23C16/00;C23C16/40;C23C16/455;C23C16/54;(IPC1-7):C23C16/00 |
主分类号 |
C23C16/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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