发明名称 | 等离子体催化剂 | ||
摘要 | 本发明为各种等离子体加工和处理提供了用于等离子体激发、调节和维持等离子体的方法和装置。在一个实施例中,在惰性或活性等离子体存在的情况下,通过使多模处理腔中的气体受到频率介于大约1MHz和大约333GHz的电磁辐射来激发等离子体。例如,惰性等离子体催化剂可以包括能够使局部电场变形而诱发等离子体的任何物体。活性等离子体催化剂可以包括在电磁辐射存在的情况下能够向气态原子或分子输送大量能量以从气态原子或分子激发出至少一个电子的任何粒子或高能波包。 | ||
申请公布号 | CN1653868A | 申请公布日期 | 2005.08.10 |
申请号 | CN03810275.7 | 申请日期 | 2003.05.07 |
申请人 | 达纳公司 | 发明人 | S·库马尔;D·库马尔 |
分类号 | H05H1/46;H01J37/32 | 主分类号 | H05H1/46 |
代理机构 | 北京市中咨律师事务所 | 代理人 | 杨晓光;李峥 |
主权项 | 1.一种形成等离子体的方法,包括:使气体流入多模处理腔中;以及在至少一种惰性等离子体催化剂存在的情况下,通过使所述腔中的气体受到频率低于大约333GHz的电磁辐射来激发等离子体,所述惰性等离子体催化剂包括至少是半导电的材料。 | ||
地址 | 美国俄亥俄州 |