微刻用组合物

摘要

一种含氟聚合物，其由至少一种选自乙烯、α-烯烃、1，1’-二基取代的烯烃、乙烯醇、乙烯基醚和1，3-二烯的间隔基团以及含有具有结构-C(R_f)(R_f’)OR_b的官能团的降冰片烷基制备，其中，R_f和R_f’是1-约10个碳原子的相同或不同的氟代烷基，或者在一起成为(CF₂)_n，其中n为2-约10，R_b是氢原子或酸-或碱-不稳定保护性基团；r是0-4的整数。这些含氟聚合物的吸光系数在157纳米波长小于4.0μm^-1。这些聚合物可用于微刻用的光刻胶组合物中。它们在这种短波长具有高透明性并且还具有其它关键性能，包括良好的抗等离子腐蚀性和粘结性能。

主权项

1.一种含氟聚合物，其至少由以下物质制备：(A)选自乙烯、α-烯烃、1，1’-二基取代的烯烃、乙烯醇、乙烯基醚和1，3-二烯的间隔基团；和(B)得自具有以下结构的单体的重复单元：其中，R₁、R₂、R₃和R₄的每一个独立地是氢、卤原子、含有1-10个碳原子的烃基、取代的烃基、烷氧基、羧酸、羧酸酯或含有以下结构的官能团：                  -C(R_f)(R_f’)OR_b其中，R_f和R_f’是1-10个碳原子的相同或不同的氟代烷基，或者在一起成为(CF₂)_n，其中n为2-10；R_b是氢或酸-或碱-不稳定保护基团；r是0-4；重复单元(B)的至少之一具有使R₁、R₂、R₃和R₄的至少一个含有结构C(R_f)(R_f’)OR_b的结构。