| 发明名称 | 光掩模及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种光掩模及其制备方法。在至少部分基底上沉积第一材料以形成第一材料层。在第一材料的沉积完成之前，在高于大约300摄氏度的温度对该基底施加热处理。 | ||
| 申请公布号 | CN1653392A | 申请公布日期 | 2005.08.10 |
| 申请号 | CN03802666.X | 申请日期 | 2003.01.24 |
| 申请人 | 杜邦光掩公司 | 发明人 | L·迪厄;F·D·卡尔克 |
| 分类号 | G03F9/00;G03C5/00 | 主分类号 | G03F9/00 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 邹雪梅;马崇德 |
| 主权项 | 1.一种制备光掩模坯件的方法，其包括：在至少部分基底上沉积第一材料形成第一材料层；和在第一材料的沉积完成之前，对基底在高于大约300摄氏度的温度施加热处理。 | ||
| 地址 | 美国得克萨斯州 | ||