微机电光学显示元件的制造方法

摘要

本发明提供一种微机电光学显示元件的制造方法。形成一牺牲层于一基板上方。形成多个支撑柱穿越牺牲层而连接基板。形成一反射层于牺牲层与支撑柱上。形成一弹性层于反射层上。形成一光致抗蚀剂层于部分弹性层上。以光致抗蚀剂层为掩模，利用湿蚀刻去除部分弹性层而得到一图案化的弹性层，并且蚀刻停止在反射层上。去除光致抗蚀剂层。以图案化的弹性层为掩模，利用干蚀刻去除部分反射层而得到一图案化的反射层，其中图案化的弹性层与反射层构成一机械层。去除牺牲层使得机械层被支撑于支撑柱上。

主权项

1.一种微机电光学显示元件的制造方法，其步骤包括：形成一光学堆叠层于一基板上；形成一牺牲层于该光学堆叠层上；图案化该牺牲层而形成多个穿孔于该牺牲层内；填充一支撑物于该些穿孔中而形成多个支撑柱；形成一反射层于该牺牲层与该些支撑柱上；形成一弹性层于该反射层上；形成一光致抗蚀剂层于部分该弹性层上；以该光致抗蚀剂层为掩模，利用湿蚀刻工艺去除部分该弹性层而得到一图案化的弹性层，并且蚀刻停止在该反射层上；去除该光致抗蚀剂层；以该图案化的弹性层为掩模，利用干蚀刻工艺去除部分该反射层而得到一图案化的反射层，其中该些图案化的弹性层与反射层构成一机械层；以及去除该牺牲层而使该机械层被支撑于该些支撑柱上。