| 发明名称 | 有机装置 | ||
| 摘要 | 公开了一种均匀沉积有机层的方法。由于有机层非常薄，对目标厚度的任何偏差都将导致可以看出的光缺陷。在有机层的下面提供对有机材料显示良好涂覆性能的均质层(275)。通过覆盖金属内部连接(205)，减少或防止了对聚合物层均匀性的不良影响。 | ||
| 申请公布号 | CN1653626A | 申请公布日期 | 2005.08.10 |
| 申请号 | CN03810390.7 | 申请日期 | 2003.04.30 |
| 申请人 | 奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司 | 发明人 | S·C·聪;E·K·M·京特尔;D·拉西;H·B·林;H·克劳斯曼;C·K·谭 |
| 分类号 | H01L51/20 | 主分类号 | H01L51/20 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 韦欣华;徐雁漪 |
| 主权项 | 1.一种装置，包括：具有活性区域的基体；环绕所述活性区域的盖结合区域；位于金属喷镀层上面的均质层，所述均质层有助于基体上一个或多个有机层的涂覆均匀性，从而减少或防止了金属的不良影响；以及在盖结合区域结合于基体上的盖。 | ||
| 地址 | 德国雷根斯堡 | ||