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"DISPOSITIVO PARA TRATAR MATERIAL EM FOLHA CONTìNUA EM UM PROCESSO ACENTUADO COM PLASMA". A presente invenção refere-se a um dispositivo para tratar um material em folha contínua em um processo acentuado com plasma contínuo que compreende uma câmara de vácuo (1) com o dispositivo (2) para manter uma pressão reduzida constante dentro da câmara (1) e disposto dentro da câmara (1), um tambor giratório (3) para suportar e transportar a folha contínua (4), um dispositivo magnetron defrontando-se com a folha contínua (4) suportada e transportada pelo tambor (3) e um dispositivo de suprimento de gás para suprir um gás do processo ou mistura do gás do processo para um espaço (10) entre o tambor e o dispositivo magnetron, espaço este (10) no qual o plasma é sustentado. O dispositivo magnetron compreende uma pluralidade de eletrodos magnetron independentes (6) com faces de magnetron retangulares dispostas ao lado uma da outra em paralelo. Cada eletrodo magnetron (6) é individualmente energizado com uma voltagem alternada por seu próprio dispositivo de suprimento de força (7). O tambor (3) é eletricamente aterrado, flutuante ou negativamente polarizado. O dispositivo é em particular aplicável para revestir uma folha contínua flexível (4) em um processo químico de deposição por vapor acentuado com plasma, por exemplo, para revestir uma folha contínua de uma película de polímero com óxido de silício para aperfeiçoar suas propriedades de barreira. O dispositivo produz com alta confiabilidade, revestimentos com uma qualidade muito constante e só precisa de pouca manutenção que pode ser realizada de uma maneira simples.
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