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发明名称 Volatile precursors for deposition of metals and metalcontaining films.
摘要
申请公布号 HK1039944(A1) 申请公布日期 2005.08.05
申请号 HK20020101237 申请日期 2002.02.20
申请人 AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC. 发明人 JOHN ANTHONY THOMAS MORMAN;DAVID ALLEN ROBERTS;MORTEZA FARNIA
分类号 C07F1/00;C07F1/08;C07F5/02;C07F7/10;C07F19/00;C23C16/18;H01L21/285;(IPC1-7):C07F;C23C 主分类号 C07F1/00
代理机构 代理人
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