发明名称 半导体晶片及其制造方法
摘要 在半导体晶片上形成多个IC区域,该半导体晶片被分割为包含IC的单个芯片,其中在硅衬底上依次形成连线层和绝缘层。为了降低IC和划片线之间的高度差,形成平面绝缘层以覆盖关于IC、密封环和划片线的整个表面。为了避免在IC中出现断裂和故障,以阶梯状的方式形成开口从而部分地蚀刻绝缘层,使得每个所述开口的壁均以20°至80°的指定角度倾斜。为了防止水分和其他杂质渗入用于测试IC的监测元件中,用二级密封环围绕监测元件,二级密封环通过顺序形成金属层和氧化层以及通孔来构成,通过所述通孔,氧化层被部分地中断。
申请公布号 CN1649154A 申请公布日期 2005.08.03
申请号 CN200510005687.9 申请日期 2005.01.24
申请人 雅马哈株式会社 发明人 内藤宽;藤田晴光
分类号 H01L27/04;H01L21/00;H01L21/66 主分类号 H01L27/04
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 陶凤波;侯宇
主权项 1.一种半导体晶片,在该半导体晶片上形成有通过划片区域划分的多个IC区域以实现具有多层结构的IC,并且在所述IC的外围区域中形成有多个密封环,其中对于每个所述IC区域,最上层连线层是与形成在所述密封环中的金属层一起形成的,平面绝缘层形成为用以覆盖所述金属层、所述IC和所述划片区域,并且钝化膜形成在所述平面绝缘层上。
地址 日本静冈县