发明名称 |
半导体器件制造工厂中的原料供给系统 |
摘要 |
在希望灵活生产的小规模工厂中,以较低的成本提供纯水供给系统,而不会降低生产效率。纯水系统生产多个等级的纯水,这些纯水通过与使用点连接的管道被供给,用于清洁、CMP、光刻等。根据从每个使用点接收的用于开始使用某种等级的纯水的请求信号,控制器确定所需的量是否超过纯水系统能够供给该等级纯水的能力。如果没有超过,则控制器向使用点发送使用允许信号,以允许其使用纯水。当某个使用点正在使用所请求等级的纯水时,控制器不允许请求的使用点使用该纯水,直到正在使用该纯水的使用点发出使用结束信号。 |
申请公布号 |
CN1650400A |
申请公布日期 |
2005.08.03 |
申请号 |
CN03809536.X |
申请日期 |
2003.03.27 |
申请人 |
株式会社荏原制作所 |
发明人 |
宫崎邦浩;滩原壮一;臼田欣也;赤堀晶二;中川创太;中岛健 |
分类号 |
H01L21/02;H01L21/304;C02F1/00;G06F17/60 |
主分类号 |
H01L21/02 |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
王永刚 |
主权项 |
1.一种为半导体器件制造工厂中的多个处理设施供给相同种类的气体、液体或固体原料的原料供给系统,该系统包括:原料供给源;和控制器,用于控制从供给源到处理设施的原料供给,通过控制原料被供应到处理设施的起始时间,使多个处理设施当前使用的原料总量不超过供给源能够提供的原料的量。 |
地址 |
日本东京 |