发明名称 布线基板的制造方法
摘要 一种布线基板的制造方法,用反射光对高精度地形成了的定位记号进行摄像,根据其摄像结果来进行布线基板工件与曝光用掩膜的相对定位。该方法包括:在板状芯子(2)上顺序层叠导体层(M1)和电介质层(V1)的工序;在电介质层(V1)的主表面上照射激光,形成定位记号(50)的工序;以及从电介质层(V1)的主表面侧对定位记号(50)照射位置检测用的光,并检测反射光,根据其检测结果来进行布线基板工件(1′)与曝光用掩膜的相对定位的工序,在形成定位记号(50)的工序中,形成具有沟(50a)并在该沟(50a)内露出了导体层(M1)的定位记号,其中,该沟(50a)形成如下:一边移动照射位置,使其与环状的预定挖掘区域(58)的周向和径向重合,一边对预定挖掘区域(58)照射激光,把电介质层(V1)挖掘成环状。
申请公布号 CN1649114A 申请公布日期 2005.08.03
申请号 CN200510007009.6 申请日期 2005.01.31
申请人 日本特殊陶业株式会社 发明人 由利伸治
分类号 H01L21/48;H01L21/60;H01L23/485;H05K3/46;H05K1/02 主分类号 H01L21/48
代理机构 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人 钟强;樊卫民
主权项 1.一种布线基板(1)的制造方法,该布线基板具有交替层叠树脂电介质层(V1、V2、V11、V12)和导体层(M1、M2、M3、M11、M12、M13)而成的布线层叠部(L1、L2),该方法的特征在于,包括:在支承基板(2)上顺序层叠导体层(M1)和树脂电介质层(V1)的工序;在树脂电介质层(V1)的主表面上照射激光,形成定位记号(50)的工序;以及从树脂电介质层(V1)的主表面侧对定位记号(50)照射位置检测用的光,并检测反射光,根据该检测结果来识别布线基板工件(1′)的位置的工序,在形成定位记号(50)的工序中,形成具有沟(50a)并在所述沟(50a)内露出了导体层的形态的定位记号(50),其中,所述沟(50a)形成如下:一边移动照射位置,使其与环状的预定挖掘区域(58)的周向和径向重合,一边对预定挖掘区域(58)照射激光,把树脂电介质层(V1)挖掘成环状。
地址 日本爱知县