发明名称 多叠层光学数据存储介质和这种介质的使用
摘要 本发明描述了一种用于在记录过程中使用穿过介质(20)的入射表面(16)的聚焦射束(30)实现可重写的记录的多叠层光学数据存储介质(20)。所述介质(20)具有基底(1)。其一侧沉积有包括相变型记录层(6)的第一记录叠层(2)。所述第一记录叠层(2)位于最远离入射表面(16)的位置上。至少一个另外的记录叠层(3),包括相变型记录层(12),相比于第一记录叠层(2)更靠近入射表面(16)。对于射束(30)而言是透明的Cu质金属反射层位于另一记录层(3)上,厚度在2到10nm之间。透明隔离层(9)位于记录叠层(2,3)之间。这样,可以实现具有高光学透射率和足够的散热效果的金属反射层(14),其对相邻层的化学反应性还很低。
申请公布号 CN1650360A 申请公布日期 2005.08.03
申请号 CN03809939.X 申请日期 2003.04.11
申请人 皇家飞利浦电子股份有限公司 发明人 M·范施恩德;G·-F·周;J·C·N·里佩斯;J·H·J·鲁森;A·E·T·库伊珀
分类号 G11B7/24 主分类号 G11B7/24
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 邹光新;张志醒
主权项 1、一种多叠层光学数据存储介质,用于在记录过程中使用进入介质的入射表面的聚焦射束实现可重写的记录,包括:基底,其一侧沉积有:包括相变型记录层的第一记录叠层,所述第一记录叠层位于最远离入射表面的位置上,至少一个另外的记录叠层,包括相变型记录层,相比于第一记录叠层更靠近入射表面,该叠层还包括金属反射层,所述金属反射层对于射束而言是透明的,位于记录叠层之间的透明隔离层,所述透明隔离层的厚度大于聚焦激光束的聚焦深度,其特征在于,金属反射层主要包括元素Cu,其厚度值选自范围2到10nm。
地址 荷兰艾恩德霍芬