发明名称 | 制造氧化物超导薄膜的方法 | ||
摘要 | 本发明提供了一种制造氧化物超导膜的方法,通过使用激光沉积法而在基质上形成,该方法包括用激光束辐照靶,并因而使从靶中散发的物质沉积在包括单晶基质的基质上,其中将用于靶辐照的激光束的频率分成至少二步。以致可制造出具有高临界电流密度的氧化物超导膜。 | ||
申请公布号 | CN1649794A | 申请公布日期 | 2005.08.03 |
申请号 | CN03809275.1 | 申请日期 | 2003.04.17 |
申请人 | 住友电气工业株式会社 | 发明人 | 母仓修司;大松一也 |
分类号 | C01G1/00;C01G3/00;C23C14/08;C23C14/28;H01L39/24;H01B12/06;H01B13/00 | 主分类号 | C01G1/00 |
代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 范明娥;巫肖南 |
主权项 | 1.一种根据脉冲激光沉积法,因用激光束辐照使从原材料散发的物质沉积在单晶物质上,而在单晶基质上制造氧化物超导膜的方法,其中原材料的辐照,其实施方式是要使激光束的脉冲辐照重复频率分成至少二步。 | ||
地址 | 日本大阪府 |