发明名称 制造氧化物超导薄膜的方法
摘要 本发明提供了一种制造氧化物超导膜的方法,通过使用激光沉积法而在基质上形成,该方法包括用激光束辐照靶,并因而使从靶中散发的物质沉积在包括单晶基质的基质上,其中将用于靶辐照的激光束的频率分成至少二步。以致可制造出具有高临界电流密度的氧化物超导膜。
申请公布号 CN1649794A 申请公布日期 2005.08.03
申请号 CN03809275.1 申请日期 2003.04.17
申请人 住友电气工业株式会社 发明人 母仓修司;大松一也
分类号 C01G1/00;C01G3/00;C23C14/08;C23C14/28;H01L39/24;H01B12/06;H01B13/00 主分类号 C01G1/00
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 范明娥;巫肖南
主权项 1.一种根据脉冲激光沉积法,因用激光束辐照使从原材料散发的物质沉积在单晶物质上,而在单晶基质上制造氧化物超导膜的方法,其中原材料的辐照,其实施方式是要使激光束的脉冲辐照重复频率分成至少二步。
地址 日本大阪府