等离子体连续镀膜装备的防止气体堵塞装置

摘要

本发明是提供一种等离子体连续镀膜装备的防止气体堵塞装置，其主要结构包括有镀膜工作间、工作间的入口侧设置有四角框形状的气体喷射管，沿着带有喷射孔气体喷射管的一侧固定设置有保护盖；保护盖的端面呈半圆形。本发明的效果是通过在四角框形状的气体喷射管一侧固定设置保护盖，在上部电极和下部电极之间产生等离子体的区域内，保护盖阻断了蒸镀物质向气体喷射管接近，防止了蒸镀物质蒸镀在气体喷射管上的喷射孔上，于是即使连续进行蒸镀作业，也能够从气体喷射管均匀喷射出气体，能够确保均匀的蒸镀。

主权项

1、一种等离子体连续镀膜装备的防止气体堵塞装置，其结构包括有镀膜工作间、工作间的入口侧设置有四角框形状的气体喷射管，其特征是沿着气体喷射管(10)带有喷射孔(12a)的一侧固定设置有保护盖(122)。