| 发明名称 |
COMPOSITION FOR POLISHING METAL, POLISHING METHOD FOR METAL LAYER, AND PRODUCTION METHOD FOR WAFER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1558688(A1) |
申请公布日期 |
2005.08.03 |
| 申请号 |
EP20030809873 |
申请日期 |
2003.10.31 |
| 申请人 |
SHOWA DENDO K.K. |
发明人 |
SATO, TAKASHI;NISHIOKA, AYAKO;UOTANI, NOBUO |
| 分类号 |
C09G1/02;H01L21/321;(IPC1-7):C09G1/02;H01L21/768 |
主分类号 |
C09G1/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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