发明名称 一种用于存储器硬盘的磁盘基片抛光浆料
摘要 本发明涉及一种用于存储器硬盘的磁盘基片抛光浆料,属于计算机存储器硬盘制造技术领域。本发明的抛光浆料含有磨料、氧化剂和水,其特征在于该抛光浆料还含有水溶性润滑剂和抛光平衡剂。所述水溶性润滑剂为脂肪酸聚氧乙烯醚磷酸酯、脂肪胺聚氧乙烯醚磷酸酯、脂肪酸多元醇酯的一种或两种以上的混合物,其含量为0.2-20wt%;所述抛光平衡剂为水溶性醇,其平衡剂的含量为0.05-20wt%。采用本发明提供的抛光浆料对存储器硬盘的磁盘基片进行抛光,可以降低存储器硬盘的基片表面的粗糙度和波纹度,使得平均波纹度和平均粗糙度均小于0.7埃,可并有效地消除凹坑、突起、划痕、抛光条痕等表面缺陷,并能以经济的高速度进行抛光。
申请公布号 CN1213118C 申请公布日期 2005.08.03
申请号 CN02155461.7 申请日期 2002.12.13
申请人 清华大学 发明人 雒建斌;雷红;潘国顺;路新春
分类号 C09G1/02;B24B9/02 主分类号 C09G1/02
代理机构 代理人
主权项 1、一种用于存储器硬盘的磁盘基片抛光浆料,含有磨料、氧化剂和水,其特征在于该抛光浆料还含有水溶性润滑剂和抛光平衡剂;所述水溶性润滑剂为脂肪酸聚氧乙烯醚磷酸酯、脂肪胺聚氧乙烯醚磷酸酯、脂肪酸多元醇酯的一种或两种以上的混合物,其润滑剂的含量为0.2-20wt%;所述抛光平衡剂为水溶性醇,所述水溶性醇为异丙醇、乙二醇、丙二醇、丁二醇、丙三醇的一种或两种以上的混合物,其抛光平衡剂的含量为0.05-20wt%。
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